10.3969/j.issn.1004-4507.2005.08.005
90～65nm清洗新技术
简单说明了清洗技术在90～65 nm节点技术阶段的新发展,着重介绍了一种新的清洗技术-低温冷凝清洗技术产生的背景、技术现状及其应用,对我国半导体清洗行业的未来发展提出建议.
90～65nm节点技术、超凝态过冷动力学清洗、微粗糙度、RMS(均方根误差值)、载流子迁移率
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TN305.97(半导体技术)
2005-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
13-15,28
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