10.3969/j.issn.1004-4507.2005.07.003
193nm浸入式光刻技术独树一帜
介绍了193 nm浸入式光刻机和193 nm光刻胶的最新发展动态以及下一代193 nm浸入式光刻机.
浸入式光刻技术、193nm光刻机、193nm光刻胶
34
TN305.7(半导体技术)
2005-08-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
11-14
10.3969/j.issn.1004-4507.2005.07.003
浸入式光刻技术、193nm光刻机、193nm光刻胶
34
TN305.7(半导体技术)
2005-08-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
11-14
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn