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10.3969/j.issn.1004-4507.2005.02.002

光刻设备市场与技术现状

引用
@@ 由于半导体制造工艺的快速推进,工艺节点已进入90nm的时代承担90nm工序的是波长193nm的ArF曝光设备.2003年的ArF曝光设备供货数量约为75台.虽然数量比ArF及i线半导体曝光设备要少,但却在稳步增长.

光刻设备、市场、曝光设备、半导体制造工艺、工艺节点、数量比、增长、时代、供货、工序、波长

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TN3;TN1

2005-04-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

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2005,34(2)

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