10.3969/j.issn.1004-4507.2004.04.021
封闭式匀胶显影设备的结构与技术优势
介绍了KINGSEMI封闭式晶片处理系统.它是满足深亚微米光刻工艺要求的Cluster结构.有占地小,采用空气过滤(MFC)及气流导向(FFU)等控制系统,对局部环境进行温湿度控制等优点;智能型化学品自动供应站精确地控制光刻胶、显影液等化学试剂的用量.片盒站机械手和工艺单元机器人联合传送晶片,准确、安全、快捷;备有容纳4个片架盒的片盒站,可同时处理两种不同尺寸的晶片.嵌入式控制软件,Windows NT操作系统,构成良好的人机界面,操作方便.
封闭式、空气过滤系统、气流导向系统、嵌入式、片盒站、化学品供应站
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TN305(半导体技术)
2004-07-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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