10.3969/j.issn.1004-4507.2004.03.008
光学光刻技术向纳米制造挺进
概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以及光学光刻技术在大批量生产应用中的优势,并介绍了国外开发极紫外光刻技术的技术指标,预测了光学光刻技术的前景.
光学光刻、光学邻近效应校正、下一代光刻、纳米制造、优势与前景
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TN350.7(半导体技术)
2004-04-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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