10.3969/j.issn.1004-4507.2004.02.002
光学光刻的极限
讨论了光学光刻技术的各种分辨力增强技术(RETs),根据各类光刻设备的开发进展,探讨了光学光刻技术的加工极限.
光学光刻、分辨力增强技术、浸没式透镜、偶极照明双重曝光、分辨力极限
33
TN305.7(半导体技术)
2004-04-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
4-9
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10.3969/j.issn.1004-4507.2004.02.002
光学光刻、分辨力增强技术、浸没式透镜、偶极照明双重曝光、分辨力极限
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TN305.7(半导体技术)
2004-04-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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