10.3969/j.issn.1004-4507.2004.01.017
兆声清洗技术分析及应用
主要论述兆声清洗技术原理及其在微电子清洗工艺过程中的应用.采用兆声清洗法可以减少化学品和高纯水的用量,在不破坏晶圆表面特征的前提下,提高对亚微细颗粒及各种污染物的去除能力及生产效率.
RCA清洗法、高纯水、范德瓦尔斯引力、气穴效应、兆声清洗、压电陶瓷晶体
33
TN305(半导体技术)
2004-04-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
63-66
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10.3969/j.issn.1004-4507.2004.01.017
RCA清洗法、高纯水、范德瓦尔斯引力、气穴效应、兆声清洗、压电陶瓷晶体
33
TN305(半导体技术)
2004-04-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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