期刊专题

Trias(R)SPA:高速游离基氧氮化(Radical Oxidation &Nitridation)对应的等离子处理设备

引用
@@ Tokyo Electron Ltd.(东京都港区,社长东哲郎)宣布开始销售与200mm/300mm晶片相对应的能进行游离基氧氮化的等离子体处理设备”Trias SPA”.

游离基、氧氮化、等离子体、处理设备、东京都、销售、晶片、港区

32

TN605(电子元件、组件)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共2页

62-63

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

32

2003,32(1)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn

打开万方数据APP,体验更流畅