折射透镜与折反射透镜比较
最近宣布的光刻设备就速度、分辨率、对准、光源甚至价格方面都非常接近。SVGL、MIKON、ASML和CANON公司之间设备的主要差别在于SVGL采用了一种带反射折射透镜的光学系统，而其它公司则采用折射透镜。问题在于折射透镜是否能够用于157nm远紫外设备以及这种透镜是否在像差方面受到限制。如果是后一种情况，SVGL公司专利的折反射透镜与ASML公司的优势技术结合就能在2005年进入70nm技术段加工领域。这便是Intel、Samsung和Hyundal盗助SVGL开发193 nm远紫外步进扫描光刻设备的最大因素。即便是193nm设备，也存在折射透镜技术的所有权成本(COO)问题。据SVGL公司介绍，193 nm Micrascan-V仅需要2kg的氟化钙材料做透镜，每千克CaF2的价格为1万美元，与需要50kg氟化钙材料的折射光路相比，Micrascan-V光刻设备透镜的材料成本仅为2万美元，而折射光学透镜的材料成本则需50万美元。对于157nm远紫外光刻系统来说，氟化钙材料将是唯一可适用于折射和折反射透镜设计的透镜材料。目前用于远紫外设备的石英材料在157nm波长没有足够的高透射率，同时其它材料也有很大的限制。例如，MgF2的双折射太高，而LiF的溶解度比CaF2要大160倍。
折射透镜、氟化钙材料、光刻设备、远紫外、反射透镜、材料成本、美元、技术结合、所有权成本、石英材料、价格、加工领域、光学系统、光学透镜、光刻系统、步进扫描、透射率、双折射、溶解度、镜技术
30
TU5;TQ1
2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共1页
53
