10.3969/j.issn.1672-5468.2006.04.004
SEM在电子元器件破坏性物理分析中的应用
探讨了在电子元器件破坏性物理分析(DPA)中,如何利用扫描电子显微镜(SEM)的高分辨、景深深、放大倍数高和立体感强等一系列技术特点,对微电子器件的互连金属化层异常缺陷进行定位观察、成像和分析的技术.实践证明,SEM可以很好地解决光学显微镜无法解决的一些技术问题,可以提高DPA结果的准确性.
扫描电子显微镜、破坏性物理分析、微电子器件、互连金属化层、缺陷
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TN16(真空电子技术)
2006-09-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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