电离层中纬槽极小的位置变化及其控制因素研究
本文利用2000年至2009年CHAMP卫星朗缪尔探针实地测量的电子密度数据,分析了电离层中纬槽的位置变化及其控制因素.研究结果表明:(1)地磁平静期电离层中纬槽的位置随磁地方时和经度变化;(2)电离层中纬槽的位置对地理经度的依赖表现为西半球槽的位置高于东半球;(3)AE指数和SYM-H指数与槽的位置变化显著相关,表明极光电集流和环电流是中纬槽位置变化的重要控制因素;(4)太阳风电场晨-昏分量的量值变化显著影响中纬槽位置,而其极性变化的影响相对较弱.研究结果对中纬槽建模有一定的参考价值.
电离层中纬槽、磁暴、中纬槽位置变化、控制因素、CHAMP卫星
58
P352(空间物理)
国家自然科学基金项目41274160资助.
2015-04-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
12-19
