磁控溅射法制备TiN薄膜及其性能研究
为了研究Ar/N2流量比对TiN薄膜耐蚀性的影响,采用反应直流磁控溅射法在304不锈钢上制备TiN薄膜.研究了在溅射沉积过程中Ar/N2气体流量比对TiN薄膜结构形貌和耐腐蚀性能的影响,并对结果进行了分析.结果 表明:在保持其他工艺参数不变的情况下,增大N2流量制备TiN薄膜,薄膜主要成分为TiN,Ti2N和TiN0.3;在高的Ar/N2条件下,即低的氮分压下,薄膜生长呈任意取向,在低的Ar/N2条件下,即高的氮分压下,薄膜(200)择优取向;氩氮流量比为50∶5时,电阻率最小,为0.002 Ω·m,薄膜具有良好的导电性;当氩氮流量比为50∶5时,TiN表面平整,呈现细小颗粒状,并且通过盐雾腐蚀试验可知,此时TiN薄膜的耐腐蚀性能最好.
TiN薄膜、磁控溅射、氩氮流量比、耐腐蚀性能
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TG178(金属学与热处理)
西安市科技局创新引导项目[201805030YD8CG1414;陕西省特殊人才支持计划;陕西高校青年杰出人才支持计划;陕西省重点研发计划项目
2020-12-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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