氯化物三价铬电镀的电化学形核机理
为研究Cr3+在金属电极表面的电结晶行为,在氯化物三价铬电镀溶液中,采用电化学工作站测试了Cr3+沉积的时间电流曲线,并利用扫描电镜(SEM)分析镀层形貌.结果 表明:在镍电极、铜电极和铬电极表面,Cr3+的电沉积均经历了成核过程;铜电极和镍电极表面表现为连续成核转为瞬时成核的机理,铬电极的(I/Im)2-t/tm曲线偏离理论曲线较大,但其表现出较正的形核阶跃电位(-1.1 V);随着阶跃电位的负移,3种电极电沉积的电流极大值逐渐增加,电结晶的扩散速率增加,成核数密度减少,镀层由平整光滑逐渐转变为球状晶胞紧密堆砌,晶胞尺寸逐渐增大;在相同的阶跃电位下,铬电极的沉积电流值更小,成核数密度更大,晶胞尺寸更小.
电结晶、三价铬电镀、形核机制、恒电位阶跃
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TQ153.1
辽宁省自然科学基金-航空联合开放基金2014028029
2019-05-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
1-5,17
