脉冲电沉积钨钴合金镀层的织构与硬度
脉冲参数对脉冲电沉积钨钴合金镀层表面组织结构影响很大,从而影响镀层的硬度,目前较少有针对脉冲频率与占空比对钨钴合金镀层微观结构的影响,以及织构与镀层硬度关系方面的报道.利用脉冲电镀电源在CrNiMo3VA基材表面沉积钨钴合金镀层,利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计分析镀层形貌、结构和显微硬度,探究占空比和脉冲频率对镀层织构与硬度的影响.结果表明:随着占空比的增加,镀层织构系数TC(100)由0.398增加到0.845再减小至0.598,镀层硬度由637.8 HV2 N增至719.2 HV2 N再减至656.8 HV2 N;随着脉冲频率的增加,镀层织构系数TC(100)由0.612增加到0.845再减小至0.719,镀层硬度由670.2 HV2 N增至719.2HV2 N再减至703.7 HV2 N;采用脉冲电沉积方法,可制备出表面分别具有(100)晶面、(101)晶面择优的合金镀层;织构的变化显著影响镀层的硬度,随着织构系数TC(100)的升高,镀层的硬度逐渐增大.
脉冲电沉积、钨钴镀层、织构、硬度
51
TQ153.2
2018-12-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
80-83
