电沉积纳米晶镍镀层微结构的调控及其对力学性能的影响
电沉积金属镀层的微观结构对镀层性能有重要影响,而镀层微观结构与电沉积条件密切相关.通过电沉积法制备了具有择优取向的纳米晶镍镀层,研究了电流密度、电沉积时间、表面活性剂浓度、镀液温度等电沉积条件对镍镀层平均晶粒尺寸和晶面择优取向的影响,分析和讨论了镀层显微硬度随晶粒尺寸和晶面择优取向变化的机理.结果表明:纳米晶镍镀层的晶粒尺寸与晶面择优取向可通过改变电沉积条件进行调控,不同沉积条件下得到的纳米晶镍镀层平均晶粒尺寸在6～ 35 nm范围内,镍纳米晶择优取向主要在(111)和(200)晶面变化;晶粒尺寸和晶面择优取向共同影响纳米晶镍镀层的显微硬度.
电沉积条件、纳米晶镍、晶粒尺寸、择优取向
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TQ153.1
甘肃省科技计划资助18ZD2WA007,17YF1NA055;陇原青年创新创业人才项目2016-28;甘肃省能源研究所科技计划资助2018YF-04,2018QN-03;甘肃省科学院科技计划资助2016JK-01,2014JK-01,2013QN-15
2018-11-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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