电压对中频脉冲非平衡磁控溅射类金刚石薄膜结构与性能的影响
制备参数对类金刚石(DLC)薄膜的性能和结构有显著影响.利用中频脉冲非平衡磁控溅射新技术制备了DLC薄膜,采用Raman光谱、X射线光电子能谱仪、纳米压痕仪、光谱型椭偏仪研究了溅射电压对DLC薄膜微观结构、力学性能和光学性能的影响.结果表明:当溅射电压由550 V增加到750 V时,DLC薄膜中sp3杂化碳含量随溅射电压的增加而增加,当溅射电压超过750 V时,薄膜中sp3杂化碳含量随溅射电压的增加而减少;DLC薄膜的纳米硬度、折射率均随溅射电压的增加先增加而后减小,溅射电压为750 V时制备薄膜的纳米硬度及折射率最大.
类金刚石膜、中频脉冲非平衡磁控溅射、溅射电压、膜结构、膜性能
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O484.1(固体物理学)
国家自然科学基金项目11305142资助
2016-02-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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