AZ91D压铸镁合金表面最佳硅烷成膜工艺及其耐蚀性能
过去,对AZ91D压铸镁合金表面硅烷化的报道较少.以耐点蚀性能为指标,采用正交试验法优选了AZ91D压铸镁合金表面制备γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH-500)膜的主要工艺参数,包括硅烷体积分数、乙醇与去离子水体积比、水解时间、溶液pH值和浸涂时间等；通过盐水全浸试验考察了优化工艺条件下所得硅烷膜的耐蚀性能,利用扫描电镜(SEM)和能谱仪(EDS)分析其表面形貌和组成.结果表明:影响AZ91D压铸镁合金表面KH-550硅烷成膜因素的主次顺序为溶液pH值＞水解时间＞乙醇与去离子水体积比＞硅烷体系分数＞浸涂时间；最佳成膜工艺条件为硅烷体积分数为5％,乙醇与去离子水体积比为85:15,水解时间为2h,pH值为9,浸涂时间90 s；以最佳工艺制备的KH-550硅烷膜自然干燥后不太均匀,膜主要由C,N,O,Mg,A1,Si等元素组成,其防护能力略优于常规低铬钝化膜,可显著改善镁合金基体的耐蚀性能.
γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH-500)膜、耐蚀性、AZ91D镁合金、正交试验
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TG174.45(金属学与热处理)
湖南省自然科学基金资助项目10JJ6084
2013-10-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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