Ti/IrO_2-Ta_2O_5氧化物阳极涂层厚度的X射线荧光法测定
常规的光学显微镜和扫描电镜(SEM)检测为破坏性检测,且测量时间长,不便于现场应用于涂层厚度的测量.为此,制备了X射线荧光法(XRF)测量Ti/IrO_2-Ta_2O_5涂层厚度所需的校正标样,采用XRF测量了涂层的厚度,并与SEM测量的涂层厚度进行比较.结果表明:标样的涂层厚度和组分分布均匀;XRF测试中发射法比吸收法的灵敏度高,偏差小;XRF的测量结果与SEM的相近,偏差小,可靠度高.
X射线荧光、IrO_2、Ta_2O_5、氧化物阳极、厚度测量
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O657.34(分析化学)
2010-05-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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