超高真空磁控溅射法沉积铀薄膜及其表面状态
铀薄膜有助于原子参数的测试研究,目前对铀薄膜研究的报道较少.利用超高真空磁控溅射法在单晶Si片上制备了铀薄膜.通过扫描电子显微镜(SEM)对铀薄膜的表面形貌进行了观察,利用X射线光电子能谱仪(XPS)及X射线衍射仪(XRD)对铀薄膜的表面结构及元素状态进行了分析和表征.结果表明:铀薄膜呈片状式生长,比较致密、连续,表面由铀及氧化铀组成,之下为纯铀.
磁控溅射、铀薄膜、膜表面状态
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TG174.444(金属学与热处理)
2010-03-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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