氮离子束轰击对电弧离子镀TiN膜层的作用
电弧离子镀膜层中"大颗粒"的存在,降低了膜层质量,限制了其进一步应用.采用俄罗斯UVN 0.5D2I离子束辅助沉积电弧离子镀设备,对高速钢W18Cr4V上沉积的TiN膜层进行了氮离子束轰击.结果表明:TiN膜层表面"大颗粒"完全消失,凹坑浅而平整,粗糙度降低.膜层中较软的Ti和Ti2N向TiN转变,TiN(111)取向逐渐减弱,而(200)取向逐渐增强.膜层的显微硬度由原来的1 980 HV1N升高到2 310HV1N.
氮离子束、轰击、电弧离子镀、TiN膜、显微硬度
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TG174.444(金属学与热处理)
科技部国际合作重点项目2004DFA4800
2009-04-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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