10.3969/j.issn.1001-1560.2006.09.015
用射流电沉积进行局部快速电镀的工艺研究
射流电沉积是近年来发展起来的一种电沉积新工艺,具有普通电镀所不具备的一些优点.利用二维移动平台系统进行射流电沉积,研究了瓦特镍镀液的喷射速度、温度以及阴阳极间距等因素对射流电沉积的影响.研究结果表明,当镀液喷射速度为0.3 m/s,槽电压为20 V,阴阳极之间距离为17 mm时,采用该系统可在金属试样上快速获得预先设定的图形镀层,镀层分布均匀,与基体的结合力良好.
射流电沉积、瓦特镍电镀、局部电镀
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TQ15
2006-10-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共3页
49-50,70
