10.3969/j.issn.1001-1560.2005.06.012
微弧氧化技术国内外研究进展
综述了微弧氧化工艺自20世纪60年代产生至今在电源、电解液和基体合金方面的发展过程,总结了微弧氧化膜的化学成分及相结构从基体到膜表面的分布规律及电流密度、氧化时间、电压、电解液组分等因素对陶瓷膜生长和性能的影响规律.同时指出微弧氧化技术虽具有广泛的应用前景,但在理论研究和生产成本控制等方面仍存在不足之处.
微弧氧化、陶瓷层、表面改性
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TG174.451(金属学与热处理)
2005-07-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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