10.3969/j.issn.1001-1560.2005.06.010
铜及其合金化学抛光工艺研究
为了满足铜材钝化时对处理表面的要求,对化学抛光工艺及配方进行了深入研究,并分析了抛光液中各组分及工艺条件对抛光质量的影响.该工艺的最优配方及工艺条件为:50~55 mL/L磷酸,10~15 mL/L硝酸,25~30 mL/L草酸,1.0~1.5 g/L尿素,1.5~2.0 g/L香豆素,2.5 g/L磺胺,水余量,抛光温度55 ℃左右,抛光时间2~5 min.用此最优配方及工艺条件对铜及其合金进行化学抛光,可获得最佳抛光效果,且该工艺具有溶液成分简单、易于操作、抛光速度快、亮度好、污染低等优点.
化学抛光、铜及铜合金、表面处理、工艺
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TG175.3(金属学与热处理)
2005-07-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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