10.3969/j.issn.1001-1560.2004.09.010
镀铑工艺研究
为了适应现代电子光学及装饰等领域的需要,根据侯氏槽法和正交试验法研究了镀铑新技术及工艺,探讨了镀液中成分及工艺条件对镀液和镀层的影响,并对其镀液和镀层的性能进行了测试.此外,概述了镀铑液的配制和维护,并介绍了镀铑过程中的注意事项.利用本工艺电镀能得到性能优良的铑镀层,如外观白亮、反光率高、接触电阻小、硬度高、耐磨耐蚀等.
铑、电镀、工艺研究
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TQ153.1
2004-10-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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