10.3969/j.issn.1001-1560.2004.04.005
二甲基亚砜溶剂中化学镀铋的研究
为了克服传统的电化学沉积铋使镀液不稳定,镀层受析氢影响的缺点,研究了一种新的以二甲亚砜为溶剂的化学镀铋体系,提出了两种可以沉积出银白光亮致密铋镀层的配方.探讨了不同基体上化学沉积铋的情况,结果以在铁片和铜片上沉积效果好,可作为代铬镀层应用.初步用电化学方法探讨了化学镀的机理,即先由铜提供电子,而后铋自催化使镀层增厚.用EDAX分析镀层确认只含铋,用XRD对镀层进行表征,证明了镀层中的铋以金属晶体存在,平均粒径为38 nm.
化学镀、铋、二甲基亚砜
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TG174.44(金属学与热处理)
广东省自然科学基金011215
2004-05-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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14-15,17