10.3969/j.issn.1001-1560.2002.10.003
微波等离子CVD法在石英玻璃上生长金刚石薄膜
在真空条件下采用氢气刻蚀二氧化硅形成硅膜,用微波等离子化学气相沉积法在玻璃上生长金刚石薄膜,并用X射线衍射、Raman光谱和光电子能谱对石英玻璃上的金刚石薄膜进行分析,指出其形成中间层SiO-2/Si/SiC/C(金刚石)是在石英玻璃上生长金刚石薄膜的关键.
化学气相沉积法、X射线衍射、Raman光谱、光电子能谱、金刚石薄膜
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TF124.8(冶金技术)
2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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