10.3969/j.issn.1001-1560.2000.08.015
多弧离子镀用于制备高质量的Ti-N膜
研究了多弧离子镀制备Ti-N膜的重要工艺参数(磁场、弧电流、偏压和氮气流量)对膜层质量的影响，详细分析了它们影响膜层特性的原因。实验证明，提高弧电流的同时抑制液滴的产生，是提高膜层质量和生产效率的有效途径。
膜层、多弧离子镀、Ti-N膜、硬度
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TG174.444(金属学与热处理)
2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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