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10.3969/j.issn.1001-1560.2000.04.022

Ti基IrO2+Ta2O5涂层中氧化物附着量的XRF分析

引用
对传统热解法制得的Ti基IrO2+Ta2O5涂层进行了X射线能谱(EDX)及X射线衍射(XRD)测试分析.结果表明,涂层中Cl元素的含量随温度上升而降低,至500 ℃后已降为较低数值(2%),此温度下Ir组元几乎以IrO2晶体相存在.Ti基金属的热重分析(TGA)表明,500 ℃下经4 h预氧化后,该基体金属已不再氧化增重.结合涂层EDX、XRD及Ti基TGA测试结果,确定了X射线荧光分析(XRF)用标准试样的制备条件,并同时测定了不同成分及温度所得IrO2+Ta2O5涂层中两种氧化物的附着量,其成分比例与名义值较为吻合.

Ti阳极涂层、IrO2、Ta2O5、X射线荧光分析

33

O657.34(分析化学)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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1001-1560

42-1215/TB

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2000,33(4)

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