10.3969/j.issn.1001-0645.2005.z1.067
两种等离子体化学气相沉积制备类金刚石薄膜摩擦性研究
采用平行板电容耦合射频辉光放电化学气相沉积(RF-PECVD)装置,在镀有TiN/Ti过渡层的碳钢表面制备类金刚石膜(DLC),以及直接在基材表面制备掺氮的类金刚石膜,研究成膜内应力减小机理.通过对成膜表面的傅里叶变换红外光谱(FTIR)、激光Raman光谱、X射线光电子能谱(XPS)的测试,分析成膜表面的组分和微观结构对薄膜的性能影响.以薄膜表面摩擦因数的大小,初步评估试样的耐磨程度,研究α-C:H及α-C:H(N)薄膜的摩擦学性能与其结构的关系.
α-C:H(N)薄膜、等离子体化学气相沉积、摩擦磨损性能
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O53(等离子体物理学)
2005-12-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
259-262
