10.3969/j.issn.1001-0645.2004.01.019
铟锡氧化物导电玻璃上高氮含量氮化碳薄膜的电化学沉积及其性能研究
在铟锡氧化物导电玻璃基底上,采用二氰二胺(C2N 4H4)的乙腈饱和溶液电化学沉积高氮含量的CNx薄膜.X射线光电子能谱(XPS)分析表明,薄膜主要由C,N组成,最高nN/nC=1.22(接近C3N4中氮与碳的化学计量数比1.33).傅里叶变换红外光谱(FTIR)分析表明碳和氮主要以C-N, CN 的形式形成共价键.样品具有较宽的带隙,在50 ℃,1 250 V下得到的薄膜样品的光学能隙为2.32 eV.实验结果表明,电压在1 000～1 300 V、温度在30～50 ℃时能得到氮含量较高的薄膜.
氮化碳、电化学沉积、光学能隙
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O484(固体物理学)
国家自然科学基金20171007;高等学校博士学科点专项科研项目1999000718
2004-03-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
86-89
