10.3969/j.issn.1001-0645.2001.06.005
等离子处理时TiN-MoSx/Ti涂层中S大量刻蚀的XPS分析
采用XPS对TiN-MoSx/Ti复合膜表面S被Ar+大量刻蚀后化学组成及摩擦学性能的变化机理进行了研究.长时间离子轰击后复合膜表层的化学计量值x从最初的2.03降至1.25,Mo 3d5/2的结合能从231.73eV相应减小到231.07eV.刻蚀5min后的涂层表面为深黑色的致密结构,摩擦学性能优异;而刻蚀15min后的涂层表面为浅灰色的疏松结构,且摩擦磨损性能也大幅下降.
TiN-MoSx/Ti复合涂层、X射线光电子能谱、离子刻蚀、NCUPP镀膜技术
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TG115.23;TG115.58(金属学与热处理)
国家高技术研究发展计划863计划
2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
689-693
