SDP法制备非晶Y2 O3薄膜用于哈氏(Hastelloy C-276)合金基带表面精修
为了解决哈氏(Hastelloy C-276)合金基带表面粗糙度过大造成不平整的问题,采用溶液沉积平整化技术在哈氏合金表面制备Y2 O3非晶薄膜来满足使用要求.通过研究前驱液的稳定性和浓度、热处理温度和涂覆次数对表面粗糙度的影响规律,同时采用高低浓度相结合的方法涂覆非晶薄膜来提高涂覆效率,结果表明:先使用高浓度0.40 mol/L涂覆6次,再使用低浓度0.10 mol/L涂覆6次,获得了表面平均粗糙度Ra值为0.65 nm(5μm×5μm)高表面质量的带材,涂覆效率相比使用单一溶度提高了近30％.前驱液浓度越高,溶液粒径越大,前期涂覆效果更佳,后改用低浓度粒径小的前驱液进行表面精修,可以大幅提高涂覆效率.
哈氏合金、溶液沉积平整化、表面粗糙度、原子力显微镜、非晶Y2O3薄膜、溶液沉积法
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TM26(电工材料)
北京市自然科学基金资助项目;北京市教育委员会科技计划资助项目
2021-09-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共7页
1029-1035
