基于AFAM纳米多孔氧化硅薄膜超声幅值成像的试验研究
为研究原子力声学显微镜(atomic force acoustic microscopy, AFAM)技术检测纳米多孔氧化硅薄膜的超声幅值成像的影响因素,通过基于AFAM技术的谐振频率检测及超声幅值成像系统,试验得到了纳米氧化硅薄膜和纳米多孔氧化硅薄膜的前2阶接触谐振频率及其超声幅值成像,分析试验过程中的参数如激励频率、扫描频率对稳定性的影响及超声激励对纳米摩擦力的影响.试验结果显示,超声频率会影响超声幅值成像的对比度,超声激励降低了扫描过程中的摩擦力.
原子力声学显微镜、纳米薄膜、幅值成像、超声激励
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U461;TP308(汽车工程)
国家自然科学基金资助项目51305038
2018-06-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共7页
757-763
