磁控溅射参数对钛薄膜结构及阳极氧化的影响
采用直流磁控溅射的方法在导电玻璃(FTO)上制备柱状晶结构的钛薄膜,研究了磁控溅射电流和基底温度对溅射钛薄膜微观结构的影响,分析了柱状晶结构对后续阳极氧化TiO2纳米管结构的影响.利用场发射扫描电镜观察样品的形貌,X射线衍射(XRD)分析样品的晶型结构.结果表明,随着磁控溅射电流的增大,钛薄膜的晶粒尺寸增加,致密度先增大后减小,溅射电流过大过小都会降低薄膜的致密度；在300～450℃的温度区间,随基底温度的升高,钛薄膜的晶粒尺寸增加,致密度增加,柱状晶结构更均匀.将磁控溅射获得的钛薄膜进行阳极氧化处理,结果发现:排列致密的柱状晶钛薄膜有利于生长TiO2纳米管.
磁控溅射、钛薄膜、阳极氧化、TiO2纳米管阵列
39
TG146(金属学与热处理)
国家自然科学基金资助项目51002004;北京市教委基金资助项目KZ201010005001,KM201110005003
2013-03-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
263-268
