10.3969/j.issn.0254-0037.2007.11.020
高性能Si3N4基可加工复合陶瓷的快速制备
采用SPS在1 600 1 650 ℃烧结5 min可以获得致密的Si3N4-BN复相陶瓷.实验结果表明,随着BN体积分数的增加,BN聚集生长导致Si3N4-BN复相陶瓷强度总体均呈缓慢下降趋势,但仍然维持在很高的强度水平,BN体积分数为30%时三点弯曲强度接近900 MPa,而且拥有优异的可加工性能.SEM分析表明,借助SPS可以在实现Si3N4-BN复相陶瓷快速致密化基础上进行相组成及显微组织的调控和优化,从而改善材料的性能.
氮化硅、氮化硼、可加工陶瓷、SPS
33
TQ174
北京市优秀人才培养基金20041D0501509;北京工业大学校科研和教改项目97009011200501;北京工业大学博士科研启动金项目52009011200401
2008-03-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
1218-1221
